ICP-MS  Elan DRC II

特點說明:
● Echelle grating & Prism 光學分光設計－高解析、高光量
● 特別針對半導體工業特殊應用領域需求,傳統冷電漿法,無法有效克服同質譜干擾之設計
● 專利之DRC技術將Fe56,Ca40,K39檢出極限下推到ppq等級
● 分析能力優於磁場式及碰撞式質普,工作效能更高於傳統四極柱式
● 可分析等時同位素定量如Sr87/Rb87分析應用
● 同位素比值分析,快速半定量分析
● 可依特殊分析之需求加入CH4,O2,H2,He及NH3

應用領域:
半導體,太陽能產業,特用化學領域,農林地質,醫學臨床,刑事鑑定,環境,,冶金煉製,NSF認證,型態分析等領域