線上監測系統 - 博精儀器(中國)股份有限公司

緊隨著產業技術發展之迅速，對於製程中良率提升及污染控制也隨之重視及嚴謹。如在積體電路(Integrated Circuits)產業中其良率之好壞受到半導體製程中高純度化學品微量金屬污染的影響甚鉅，同時如何降低製程環境空氣中化學成分AMC對產品的影響，二者已成為半導體電子產業重要環境控制工作。

傳統上這些微量金屬及空氣中揮發性有機物質(voc)皆以離線方式off-line取樣，再由ICP/MS及GCMS分別測試其化學物質含量；但是諸多的汙染都是發生於結果分析出來前或是問題產生前對於製程效果的幫助不大。如能發展線上監測系統；監測系統位於監測源附近或利用幫浦取樣(pumping)將液體或氣體經由取樣設備至分析設備直接監測則可能即早掌握環境中有機污染物或無機化學槽液對製程效果不佳之影響。

傳統線上監測方式所面臨的如污染問題，元素或待測物經管線傳輸中因管線吸附所造成的損失及樣品長距離傳輸的時間差都是線上監測系統分析上的限制。但因需求之增加，且線上分析確能減低樣品分析時間及降低整體分析成本。

博精儀器技服團隊近年來卓立於諸多不同型態的線上監測系統，以其符合不同產業分析需求之線上分析需求

1.On-line ICPMS monitoring: 針對半導體製程中化學試劑槽，經由遠端自動化取樣系統將樣品傳輸到位於遠端實驗室分析並隨時監測分析微量元素。

2.On-line GC monitoring :利用線上取樣裝置直接將空氣抽樣後導入熱脫附儀-30℃的冷卻丼中，將空氣中VOC捕集濃縮在利用快速升溫將樣品送到GC分析。

3.On-line UV-EG monitoring:經由自動取樣裝置經UV光譜儀原理自動監測化學槽中EG成分純度變化。

4.On-line VPD-ICPMS monitoring:全自動線上晶圓表面微量金屬分析儀，可分析污染偵測極限小於10⁸atoms/cm²及晶圓表面mapping 式掃描。

5.On-line ICP-OES plating Bath monitoring:線上自動分析電鍍液槽中組成份之含量。

6.On-line Micro-View monitoring:線上有機污染物質鑑定分析。