线上监测系统 - 博精仪器(中国)股份有限公司

紧随着产业技术发展之迅速，对于制程中良率提升及污染控制也随之重视及严谨。如在积体电路(Integrated Circuits)产业中其良率之好坏受到半导体制程中高纯度化学品微量金属污染的影响甚钜，同时如何降低制程环境空气中化学成分AMC对产品的影响，二者已成为半导体电子产业重要环境控制工作。

传统上这些微量金属及空气中挥发性有机物质(voc)皆以离线方式off-line取样，再由ICP/MS及GCMS分别测试其化学物质含量；但是诸多的汙染都是发生于结果分析出来前或是问题产生前对于制程效果的帮助不大。如能发展线上监测系统；监测系统位于监测源附近或利用帮浦取样(pumping)将液体或气体经由取样设备至分析设备直接监测则可能即早掌握环境中有机污染物或无机化学槽液对制程效果不佳之影响。

传统线上监测方式所面临的如污染问题，元素或待测物经管线传输中因管线吸附所造成的损失及样品长距离传输的时间差都是线上监测系统分析上的限制。但因需求之增加，且线上分析确能减低样品分析时间及降低整体分析成本。

博精仪器技服团队近年来卓立于诸多不同型态的线上监测系统，以其符合不同产业分析需求之线上分析需求

1.On-line ICPMS monitoring: 针对半导体制程中化学试剂槽，经由远端自动化取样系统将样品传输到位于远端实验室分析并随时监测分析微量元素。

2.On-line GC monitoring :利用线上取样装置直接将空气抽样后导入热脱附仪-30℃的冷却丼中，将空气中VOC捕集浓缩在利用快速升温将样品送到GC分析。

3.On-line UV-EG monitoring:经由自动取样装置经UV光谱仪原理自动监测化学槽中EG成分纯度变化。

4.On-line VPD-ICPMS monitoring:全自动线上晶圆表面微量金属分析仪，可分析污染侦测极限小于10⁸atoms/cm²及晶圆表面mapping 式扫描。

5.On-line ICP-OES plating Bath monitoring:线上自动分析电镀液槽中组成份之含量。

6.On-line Micro-View monitoring:线上有机污染物质鑑定分析。